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GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨

簡要描述:

GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨,采用了二級處理結(jié)構(gòu),*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊,第二級采用了高剪切分散乳化機(jī)的分散乳化模塊,第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子,定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF,且定轉(zhuǎn)子精密度都達(dá)到了水平。

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GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨

 GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨使用皮帶輪按照1:3的比例變速,轉(zhuǎn)速可達(dá)9000rpm,通過變頻調(diào)節(jié)后轉(zhuǎn)速zui高可達(dá)14000rpm,是普通國產(chǎn)膠體磨轉(zhuǎn)速的3-4倍,立式分體式結(jié)構(gòu),運(yùn)行平穩(wěn),符合衛(wèi)生級標(biāo)準(zhǔn)。

GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨采用了二級處理結(jié)構(gòu),*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊,第二季采用了高剪切分散乳化機(jī)的分散乳化模塊,第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子,定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF,且定轉(zhuǎn)子精密度都達(dá)到了水平。保證粉底液在達(dá)到研磨細(xì)度的基礎(chǔ)上,達(dá)到顆粒粒徑分布范圍小,乳液穩(wěn)定性高的效果。

   

原理:

    粉底液膠體磨在電動(dòng)機(jī)的高速轉(zhuǎn)動(dòng)下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū),通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎 區(qū),在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。在機(jī)械運(yùn)動(dòng)和離心力的作用下,將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎。精磨區(qū)分三級,越向外延伸一級磨片精度越高,齒距越小,線速度越長,物料越磨越細(xì),同時(shí)流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化,并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強(qiáng)烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等,在經(jīng)過三個(gè)精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后,從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。

   

粉底液膠體磨的結(jié)構(gòu):

    粉底液膠體磨是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

 

的特點(diǎn):

1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨2、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

   

 粉底液膠體磨  GMD2000系列設(shè)備選型表

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

 

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

 

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

 

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

 

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

 

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

 

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

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產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 高剪切膠體磨

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