GMD2000系列超高速顏料研磨均質(zhì)機與同類設備的對比.發(fā)熱問題。同類設備在加工過程中，高粘物料進入腔體后，因背壓力大而輸送效果差，導致物料在設備腔體中停留時間過長而導致嚴重發(fā)熱。RGS2000系列設備在確保效果的基礎上，減小了背壓阻力，提高了輸送能力，減少了停留時間，降低了物料發(fā)熱的狀況。
超高速顏料研磨均質(zhì)機，染料分散設備，高剪切研磨均質(zhì)機，高速研磨均質(zhì)機，超細研磨均質(zhì)機
染料傳統(tǒng)的分散設備為批次研磨均質(zhì)機，隨著工業(yè)化的發(fā)展，以及染料行業(yè)的不斷進步，批次研磨均質(zhì)機的弊端暴露無遺，一是分散的不夠均勻，二是對于染料的細化能力不足。在這個大趨勢下，上海思峻自主研發(fā)了超高速高速研磨均質(zhì)機，SGN超高速高速研磨均質(zhì)機采用分體式結構，轉(zhuǎn)速高達14000rpm，是批次研磨均質(zhì)機的4-5倍。物料一進一出，100%得到剪切分散，生產(chǎn)出來的染料產(chǎn)品，更加細膩均勻。
GMD2000系列超高速顏料研磨均質(zhì)機與同類設備的對比
型號
| 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 Rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
GMD2000/4 | 300-1，000 | 14，000 | 44 | 2.2 | DN25 | DN15 |
GMD2000/5 | 1，000-1,500 | 10，500 | 44 | 7.5 | DN40 | DN32 |
GMD2000/10 | 3，000 | 7，300 | 44 | 15 | DN50 | DN50 |
GMD2000/20 | 8，000 | 4，900 | 44 | 37 | DN80 | DN65 |
GMD2000/30 | 20，000 | 2，850 | 44 | 75 | DN150 | DN125 |
GMD2000/50 | 40，000 | 2，000 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求，上海思峻在GM2000的基礎上又開發(fā)出GMD2000系列。其剪切速率可以超過10000rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒徑分布就更窄。
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