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  • GMD2000硝基咪唑類(lèi)眼膏高剪切研磨分散機(jī)
    硝基咪唑類(lèi)眼膏高剪切研磨分散機(jī)

    硝基咪唑類(lèi)眼膏高剪切研磨分散機(jī),高剪切研磨分散機(jī),超高速剪切研磨分散,SGN研磨分散機(jī)是迄今為止在流體研磨分散領(lǐng)域*的一款設(shè)備。GMD2000型研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速Z高可達(dá)14000rpm,線(xiàn)速度Z高可達(dá)44m/s,設(shè)備采用膠體磨與分散均質(zhì)乳化機(jī)合二為一的方式,使GM2000型設(shè)備即研磨、剪切、分散、均質(zhì)、乳化等諸多功能。目前SGN研磨分散機(jī)在流體研磨分散領(lǐng)域有著極其廣泛的應(yīng)用。

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  • 陶瓷研磨分散機(jī)
    陶瓷研磨分散機(jī)

    陶瓷研磨分散機(jī)要求顆粒大小達(dá)到納米級(jí),所以在研磨分散工藝上就需要采用一定的手段,我公司的高剪切分散機(jī)與錐體磨可為您解決這一難題。特別是錐體磨,磨頭可采用氧化鋁材質(zhì),在研磨分散過(guò)程中不會(huì)產(chǎn)生鐵等雜質(zhì)影響陶瓷隔膜劑的效果。

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  • 超高速研磨機(jī)
    超高速研磨機(jī)

    超高速研磨機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱(chēng)為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱(chēng)為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

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  • GMD2000/04中試型研磨分散機(jī)
    GMD2000/04中試型研磨分散機(jī)

    GMD2000/04中試型研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速Z高可達(dá)14000rpm,SGN中試型研磨分散機(jī)在參數(shù)上是SGN工業(yè)化生產(chǎn)型研磨分散機(jī)的縮放,物料中試成功后可以直接用SGN工業(yè)化研磨分散機(jī)進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn),不需要更改設(shè)備參數(shù)及物料配方。

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  • GMD2000抹茶粉研磨分散機(jī)
    GMD2000抹茶粉研磨分散機(jī)

    GMD2000抹茶粉研磨分散機(jī)總體上來(lái)說(shuō)其實(shí)是將膠體磨跟分散乳化機(jī)合二為一,在一臺(tái)設(shè)備上完成了兩臺(tái)設(shè)備聯(lián)合運(yùn)行才能達(dá)到的效果。SGN抹茶粉研磨分散機(jī)開(kāi)機(jī)轉(zhuǎn)速跟SGN膠體磨已經(jīng)SGN三級(jí)高剪切乳化機(jī)一樣,都可以達(dá)到9000rpm,經(jīng)變頻后轉(zhuǎn)速亦可升至14000rpm。

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  • GMD2000珍珠粉研磨分散機(jī)
    GMD2000珍珠粉研磨分散機(jī)

    GMD2000珍珠粉研磨分散機(jī) ,上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司 珍珠粉研磨設(shè)備具有高轉(zhuǎn)速高剪切低能耗能等優(yōu)勢(shì),設(shè)備采用兩級(jí)結(jié)構(gòu),*級(jí)采用的是膠體磨常用的磨頭,第二級(jí)使用的是超細(xì)分散盤(pán),二者結(jié)合后研磨效果更佳,分散均質(zhì)效果會(huì)更好!

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  • GMD2000/04BB霜高速研磨分散機(jī)
    GMD2000/04BB霜高速研磨分散機(jī)

    GMD2000/04BB霜高速研磨分散機(jī)是上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司 經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。

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  • GMD2000動(dòng)物細(xì)胞研磨破碎勻漿機(jī)
    GMD2000動(dòng)物細(xì)胞研磨破碎勻漿機(jī)

    GMD2000動(dòng)物細(xì)胞研磨破碎勻漿機(jī)采用了二級(jí)處理結(jié)構(gòu),*級(jí)采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊,第二季采用了高剪切分散乳化機(jī)的分散乳化模塊,第二級(jí)模塊可根據(jù)客戶(hù)對(duì)物料的處理要求開(kāi)配定轉(zhuǎn)子,定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF,且定轉(zhuǎn)子精密度都達(dá)到了*水平。

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